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真空等離子清洗機(jī)適用(應(yīng)用)范圍

文章出處:等離子清洗機(jī)廠(chǎng)家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-05-23
隨著當(dāng)今技術(shù)的飛速發(fā)展,等離子體技術(shù)現(xiàn)在廣泛應(yīng)用于諸多專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域,而且變得越來(lái)越重要。目前清洗行業(yè)對(duì)清洗的要求也越來(lái)越高,有些場(chǎng)合,常規(guī)清洗已經(jīng)不能滿(mǎn)足要求,在軍用技術(shù)以及半導(dǎo)體行業(yè)中尤其如此,等離子體清洗比較理想的解決這些精密清洗的要求,又符合當(dāng)今環(huán)保的形勢(shì)。因此有很好的市場(chǎng)前景。真空等離子清洗機(jī)相較于常壓等離子清洗機(jī),對(duì)處理材料的形狀沒(méi)有限制,并且可以處理沉孔盲孔等常壓等離子清洗機(jī)難以處理到的地方,因此擁有更廣的適用范圍。下面來(lái)看下常見(jiàn)的真空等離子清洗機(jī)適用范圍有哪些。

真空等離子清洗機(jī)適用范圍如下:


高分子材料改性
相比于其他改性技術(shù),等離子體改性技術(shù)有著無(wú)可比擬的優(yōu)勢(shì)。擁有較高的能量密度,能夠引發(fā)常規(guī)條件下難以發(fā)生的物理化學(xué)反應(yīng)過(guò)程,從而賦予改性材料表面各種優(yōu)異的性能。同時(shí)改性處理只發(fā)生在表面層(僅有幾納米到數(shù)百納米厚),并不影響基體的整體性質(zhì);照射時(shí)間短(為幾秒到幾十秒),改性效率高;沒(méi)有廢料和副產(chǎn)品的生成,不外產(chǎn)生污染。正是由于等離子清洗機(jī)具有以上眾多優(yōu)勢(shì),其在高分子材料改性應(yīng)用方面具有十分廣闊的應(yīng)用前景。

精密零件清洗
精密零件清洗在經(jīng)過(guò)機(jī)械加工的零件表面主要?dú)埩魹橛皖?lèi)污染,采用氧氣等離子體清洗比較有效,并且沒(méi)有污染物產(chǎn)生。

半導(dǎo)體封裝
引線(xiàn)焊接中的應(yīng)用:引線(xiàn)焊接是一種變形工藝。變形焊接就是兩種材料通過(guò)短期原子力相互作用完成。這種應(yīng)用必須使材料緊密接觸。在被焊接的表面上的少量的污染物不能通過(guò)任何物理、化學(xué)過(guò)程結(jié)合。污染物成了焊盤(pán)與導(dǎo)線(xiàn)問(wèn)的分隔物。這樣自然阻止了變形焊接,妨礙它們緊密接觸。由于與變形焊接密切相關(guān)的原子力只在1納米的距離內(nèi)有效,所以甚至一些污染的分子層也能負(fù)面影響粘結(jié)。有機(jī)污染物包含復(fù)雜的碳混合物,而且,由于在前道工序使用了有機(jī)溶劑和光刻蝕劑,所以污染物經(jīng)常出現(xiàn)在集成電路上,污染物還來(lái)源于常規(guī)操作中的接觸,以及空氣中的塵埃。氣態(tài)等離子體技術(shù)用來(lái)在焊接前清洗焊盤(pán),以增加可靠性和產(chǎn)量。清洗過(guò)的焊接面可以減少焊接所需的時(shí)間和壓力。這改進(jìn)了壓焊機(jī)的性能,提高了設(shè)備的利用率。

此外,IC中的電容器等電路元件、布線(xiàn)、觸點(diǎn)、保護(hù)膜等均是采用等離子體工藝制作。生產(chǎn)一個(gè)Ic大約需要2階400道工序,其中40%~50%要用到等離子體工藝。特別是最難、最重要的微細(xì)加工中的刻蝕工序,如果沒(méi)有等離子體幾乎就不可能完成。

PDMS微流控芯片制作
等離子體是由部分電子被剝奪后的原子以及原子被電離所產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì),它是除固、液、氣外,物質(zhì)存在的第四態(tài)。這些高度活躍微粒子和被處理的材料表面發(fā)生作用,使惰性的聚合物表面活化,提升其親水性,增強(qiáng)界面的交互作用且使單層分子更容易擴(kuò)散到其表面,使PDMS基體表面得以改性,最終實(shí)現(xiàn)其與多種材料鍵合。

其他
光刻膠去除,玻璃表面親水性改善,金屬材料表面潤(rùn)濕性改善,鍍膜前清洗等

以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠(chǎng)家納恩科技關(guān)于真空等離子清洗機(jī)適用范圍的簡(jiǎn)單介紹,真空等離子清洗機(jī)作為一種精密干法清洗設(shè)備,適用于混合集成電路、單片集成電路管殼和陶瓷基板的清洗;應(yīng)用于半導(dǎo)體、厚膜電路、元器件封裝前、硅片刻蝕后、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,可去除金屬表面的油脂、油污等有機(jī)物及氧化層。還可應(yīng)用于塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

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