物理等離子清洗和化學(xué)等離子清洗

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2024-04-16

等離子清洗機是一種近年來新興的清洗設(shè)備且應(yīng)用廣泛，可用于清洗各類物質(zhì)表面、除污去漬，如光學(xué)元件、半導(dǎo)體、隱型鏡片表面的有機污染物。該設(shè)備結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)等領(lǐng)域，目前廣泛應(yīng)用于光學(xué)工業(yè)、機械制造業(yè)、航天工業(yè)等行業(yè)。

等離子清洗技術(shù)是基于等離子體與物質(zhì)相互作用效應(yīng)的技術(shù)，根據(jù)其反應(yīng)類型與等離子體產(chǎn)生方式不同，等離子清洗也分為多種不同種類，從反應(yīng)類型可分為物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)以及物理化學(xué)作用同時存在三類。
從反應(yīng)類型角度來看，等離子清洗過程中伴隨著物理作用與化學(xué)作用。物理作用機制是通過等離子體中的活性粒子轟擊污染物，使污染物脫離基體表面，由于粒子碰撞該過程產(chǎn)生熱效應(yīng)；化學(xué)作用機制是指高能粒子具有極高活性，接觸污染物后與污染物反應(yīng)成小顆?；蛐》肿樱磻?yīng)物多具有較好的揮發(fā)性，從而實現(xiàn)對基體的清洗。

物理等離子清洗
以物理反應(yīng)為主的清洗，稱為濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），該類清洗不與污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，被清洗后的基體表面不存在反應(yīng)產(chǎn)物，適用于需要保持化學(xué)純凈性的物體。等離子體物理清洗中的典型工藝是氬氣等離子體清洗，氬氣為惰性氣體性質(zhì)極為穩(wěn)定，等離子態(tài)的氬氣通過粒子沖擊去除污染物，不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。物理清洗存在選擇性差的弊端，對被清洗對象表面可能會產(chǎn)生損傷，同時產(chǎn)生熱效應(yīng)，腐蝕速度較慢。

化學(xué)等離子清洗
以化學(xué)反應(yīng)為主的清洗，利用等離子體的高活性與污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使污染物分解、氧化，最終脫離基體，在清洗有機污染物方面存在優(yōu)勢。等離子體化學(xué)清洗中的典型工藝為氧氣等離子體清洗，等離子態(tài)的氧氣中含有大量的樣自由基，性質(zhì)活潑容易與有機物發(fā)生反應(yīng)，生成二氧化碳、水等小分子，通過自然揮發(fā)即可實現(xiàn)基體表面清潔。等離子體化學(xué)清洗速度快、選擇性好，但會在基體表面反應(yīng)產(chǎn)生氧化產(chǎn)物。

同時存在物理反應(yīng)與化學(xué)反應(yīng)的清洗工藝，也存在廣泛應(yīng)用。粒子的沖擊將污染物破碎并削弱了污染物的化學(xué)鍵，同時沖擊產(chǎn)生的熱效應(yīng)可以將污染物溫度提高，有利于化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行，同時保障了選擇性與清洗效率。