等離子體處理對氧化銦錫（ ITO ）親水潤濕性及性能的影響

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-05-30

ITO薄膜因其良好的導電性能、較高的可見光透過率以及易加工等特性，被廣泛應用在平板顯示、太陽能電池、透明電池、有機發(fā)光器件（OLED）、鈣鈦礦發(fā)光二極管（PeLEDs）及微波屏蔽等諸多領(lǐng)域。對于PeLEDs，空穴層直接旋涂在ITO薄膜表面。但是，若ITO薄膜沒有較好的附著力和潤濕性，極易影響成膜質(zhì)量，導致器件效率低下。另外，ITO作為透明電極，其電荷注入能力和功函數(shù)也是影響器件效率的主要因素。因此，從器件整體角度出發(fā)，提高ITO薄膜的潤濕性和性能參數(shù)顯得尤為重要。

對于處理ITO薄膜的方法，人們嘗試采用機械粗糙化、濕化學處理法、輝光放電、離子束轟擊、等離子體（Plasma）處理等方法，其中等離子體處理的效果最為明顯。等離子體技術(shù)可以將相對穩(wěn)定的惰性氣體變得更具化學活性，且可以通過改變氣體控制具體的化學反應。在整個處理過程中，輝光放電使得整個樣品表面經(jīng)受高能粒子的（離子、電子）轟擊，但其只對材料表面進行改性，深度只有幾個納米，并不會影響樣品本身的性能。

等離子處理后ITO薄膜表面潤濕性的變化

潤濕性是由液體分子之間的內(nèi)聚力和液體與固體之間的分子相互作用產(chǎn)生的粘合力兩者相決定的，接觸角是衡量潤濕性的重要參數(shù)。圖1為氧等離子體處理前后潤濕性狀態(tài)。比較處理前后ITO薄膜靜態(tài)H2O的潤濕性狀態(tài)，可以發(fā)現(xiàn)：當一滴固定大小的蒸餾水滴至未處理的ITO薄膜時幾乎不發(fā)生鋪展，且形成一個高突的液滴；處理5min后的ITO薄膜滴入相同大小體積的蒸餾水液滴后幾乎完全鋪展開，并形成液體薄膜。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技關(guān)于等離子體處理對氧化銦錫（ ITO ）潤濕性及性能的影響的簡單介紹。用等離子體處理ITO薄膜，其靜態(tài)H2O接觸角明顯下降，潤濕性顯著提高；ITO薄膜的透過率發(fā)生變化，導電性沒有發(fā)生明顯變化。氧氣等離子體處理不但可以清潔薄膜表面，還能補充一定的氧原子，等離子處理對薄膜的改性一般僅存于表面，對其深層組成沒有改變，故對ITO薄膜的方塊電阻和載流子沒有明顯的變化。

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